-
1 low-pressure chemical vapor deposition
1) Microelectronics: low-pressure chemical vapour deposition2) Makarov: LPCVDУниверсальный русско-английский словарь > low-pressure chemical vapor deposition
-
2 Low Pressure Chemical Vapor Deposition
(LPCVD)Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давленииRussian-English dictionary of Nanotechnology > Low Pressure Chemical Vapor Deposition
-
3 Atmospheric pressure chemical vapor deposition
Electronics: APCVDУниверсальный русско-английский словарь > Atmospheric pressure chemical vapor deposition
-
4 low pressure chemical vapor deposition
Semiconductors: LPCVDУниверсальный русско-английский словарь > low pressure chemical vapor deposition
-
5 упругость осаждения
-
6 упругость осаждения
-
7 упругость
1. ж. elasticity2. ж. pressure -
8 упругость осаждения
Универсальный русско-английский словарь > упругость осаждения
-
9 химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
1) Engineering: low-pressure chemical vapor deposition2) Makarov: low-pressure chemical vapor deposition( LPCVD)Универсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
-
10 химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при атмосферном давлении; результатом обычно бывает низкое качество пленки и низкая конформность по сравнению с аналогичным процессом при низком давлении (LPCVD).
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
-
11 химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при пониженном (по сравнению с атмосферным) давлении
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
-
12 химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
—
[А.С.Гольдберг. Англо-русский энергетический словарь. 2006 г.]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
-
13 химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
1) Electronics: atmospheric-pressure chemical vapor deposition2) Microelectronics: atmospheric pressure cvdУниверсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
-
14 указывать
•Increased second-stage pressure denotes that the third-stage valves require attention.
•This near constancy is evidence that nucleons interact only with near neighbours.
•No one has seen this body, but its presence is evidenced by observed fluctuations of...
•Deficient air supply is indicated by black smoke coming from...
•Figure 4 indicates that the yield of lactic acid decreases with...
•This is an indication of the ease with which the slurry can be mixed.
•Any drastic changes are indicative of improper operation.
•The use of auxiliary fans points the way to a method of...
•The experimental evidence points to the fact that...
•Recent researchers point toward the probability of...
•The figure points up some improvements which can be made in... Comparison with the available test results reveals good agreement with the computed values.
•These investigations suggest that the magnetic mechanism may apply also to... When referring to electronic absorptions, we cite the wavelength of maximum absorption.
II•These structure factors will pinpoint the atomic positions so that the crystal structure can be described.
•Blueprints specify materials by specification numbers.
•Thickness must be specified separately.
•The values must be marked with the name of the manufacturer.
Русско-английский научно-технический словарь переводчика > указывать
-
15 вакуумное химическое осаждение из газовой фазы
Engineering: low-pressure chemical vapor depositionУниверсальный русско-английский словарь > вакуумное химическое осаждение из газовой фазы
-
16 осаждение при низком давлении
Solar energy: low-pressure depositionУниверсальный русско-английский словарь > осаждение при низком давлении
-
17 химическое парофазное осаждение при низком давлении
Microelectronics: low-pressure chemical vapor depositionУниверсальный русско-английский словарь > химическое парофазное осаждение при низком давлении
-
18 LP CVD
Англо-русский словарь промышленной и научной лексики > LP CVD
-
19 LP-MOCVD
Англо-русский словарь промышленной и научной лексики > LP-MOCVD
-
20 LPD
low probability of detection — низкая вероятность ( правильного) обнаружения; ср. HPD
- 1
- 2
См. также в других словарях:
Pressure solution — or pressure dissolution in structural geology and diagenesis is a deformation mechanism that involves the dissolution of minerals at grain to grain contacts into an aqueous pore fluid in areas of relatively high stress and either deposition in… … Wikipedia
Deposition of Romulus Augustulus — Romulus Augustulus, the last Western Roman Emperor, surrenders the crown to Odoacer. Participants Odoacer Fl … Wikipedia
déposition chimique en phase vapeur sous basse pression — mažaslėgis cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. low pressure chemical vapor deposition vok. chemische Niederdruckabscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы при низком… … Radioelektronikos terminų žodynas
Sputter deposition — is a physical vapor deposition (PVD) method of depositing thin films by sputtering, that is ejecting, material from a target, that is source, which then deposits onto a substrate, such as a silicon wafer. Resputtering is re emission of the… … Wikipedia
Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in … Wikipedia
Hybrid Physical-Chemical Vapor Deposition — (HPCVD) is a thin film deposition technique that combines physical vapor deposition (PVD) with chemical vapor deposition (CVD). For the instance of magnesium diboride (MgB2) thin film growth, HPCVD process uses diborane (B2H6) as the boron… … Wikipedia
Thin-film deposition — is any technique for depositing a thin film of material onto a substrate or onto previously deposited layers. Thin is a relative term, but most deposition techniques allow layer thickness to be controlled within a few tens of nanometers, and some … Wikipedia
Pulsed laser deposition — (PLD) is a thin film deposition (specifically a physical vapor deposition, PVD) technique where a high power pulsed laser beam is focused inside a vacuum chamber to strike a target of the desired composition. Material is then vaporized from the… … Wikipedia
Vacuum deposition — Not to be confused with Vacuum coating. Vacuum deposition is a family of processes used to deposit layers atom by atom or molecule by molecule at sub atmospheric pressure (vacuum) on a solid surface. The layers may be as thin as one atom to… … Wikipedia
Electron beam induced deposition — (EBID) is a process of decomposing gaseous molecules by electron beam leading to deposition of non volatile fragments onto a nearby substrate. Process Focused electron beam of scanning electron microscope (SEM) or scanning transmission electron… … Wikipedia
Chemical vapor deposition of ruthenium — is a method to deposit thin layers of ruthenium on substrate by Chemical vapor deposition (CVD). A unique challenge arises in trying to grow impurity free films of a catalyst in Chemical vapor deposition (CVD). Ruthenium metal activates C H and C … Wikipedia
